Кристоф Фуке, генеральный директор ASML, предостерегает, что жёсткие экспортные ограничения на литографическое оборудование могут дать противоположный эффект. Вместо замедления технологического развития Китая они толкнут страну вкладывать ещё больше ресурсов в собственные разработки и в конечном итоге создадут конкурентов ASML.
ASML занимает уникальное положение в полупроводниковой отрасли. Компания — единственный в мире поставщик серийных систем EUV-литографии, необходимых для производства самых передовых процессоров. Nvidia и AMD проектируют ускорители, TSMC и Intel выпускают микросхемы, но без оборудования ASML они не могут реализовать самые сложные техпроцессы. Японские конкуренты Nikon и Canon по-прежнему работают с предыдущим поколением технологии DUV, но сопоставимого EUV-решения не предложили.
Причина монополии — не столько патенты, сколько техническая сложность системы. EUV-сканер размером примерно со школьный автобус работает с экстремальным ультрафиолетом длиной волны 13,5 нанометра. Мощный лазер десятки тысяч раз в секунду попадает в капли олова, превращая металл в плазму. Свет от плазмы проходит через набор сверхточных зеркал и переносит рисунок транзисторов на кремниевую пластину.
Обычные линзы здесь не подходят — материалы поглощают EUV-излучение. Весь оптический путь держат в глубоком вакууме, так как EUV поглощает даже воздух. Зеркала требуют точности на уровне десятков пикометров. Любая ошибка в оптике, источнике света, позиционировании пластины или управлении приводит к брак.
По словам Фуке, EUV-система содержит более 100 тысяч деталей. Примерно 200 поставщиков играют критическую роль, вся производственная сеть охватывает около 2000 компаний. ASML сознательно не производит всё самостоятельно — получает оптику от Zeiss, лазеры от Trumpf, мехатронные компоненты от VDL. Такая модель позволила компании решить задачи, на которых остановились конкуренты. ASML инвестирует в поставщиков и покупает компании только там, где риск для цепочки становится критичным. В 2013 году купила Cymer для ускорения разработки источников света, позднее получила долю в оптическом подразделении Zeiss.
Следующее поколение — системы High-NA — поднимает технологический барьер выше. Они увеличивают числовую апертуру с 0,33 до 0,55 и достигают разрешения около 8 нанометров. Новая оптика позволяет за одно экспонирование печатать элементы в 1,7 раза меньше и потенциально получать в 2,9 раза большую плотность транзисторов. Цена одной установки High-NA приближается к 400 миллионам долларов.
Высокая стоимость создаёт буфер для ASML, но не полную свободу. Фуке объясняет ограничение возможностями поставщиков. Оптику, лазеры и прецизионную мехатронику нельзя нарастить теми же темпами, что обычную электронику. Даже монополист не может резко увеличить выпуск.
Экспортные ограничения превратили технологическое превосходство ASML в геополитический инструмент. EUV-машины никогда официально не поставлялись в Китай. Нидерланды ввели лицензирование для продвинутых систем DUV, а в 2025 году расширили контроль на дополнительное полупроводниковое оборудование. Власти ссылаются на риск использования чипов в военных системах.
Однако китайская промышленность начала сокращать технологический разрыв. В 2025 году инженеры в Шэньчжэне собрали прототип EUV, способный генерировать экстремальный ультрафиолет. Микросхемы на установке ещё не выпускались, высокоточная оптика оставалась нерешённой задачей. В июне 2026 года ASML заявила, что никогда не продавала EUV-системы Китаю.
Одновременно Китай развивает менее совершенную DUV-литографию. В июле 2026 года стало известно о разработке местной иммерсионной DUV-системы. Китайские машины отстают по объёмам выпуска и возможностям, но их появление показывает механизм, о котором говорит Фуке. Ограничение доступа к зарубежному оборудованию не только замедляет развитие, но создаёт мощный стимул заменить иностранную цепочку собственной.
Фуке ожидает долгий инвестиционный цикл в ИИ. По его оценке, влияние искусственного интеллекта разворачиваться будет 10–15 лет, нынешний этап — лишь начало. Финансовые показатели пока поддерживают прогноз. Во втором квартале 2026 года ASML получила 9,3 миллиарда евро выручки и 2,9 миллиарда евро чистой прибыли, повысив годовый прогноз до 43–45 миллиардов евро.
Компания планирует примерно на 30% увеличить производственные мощности для обычных EUV-систем в 2027 году относительно уровня 2026-го (около 65 машин) и рассматривает ещё одно расширение на 30% в 2028-м. ASML связывает решение с ускорением инвестиций в ИИ и спросом на передовые процессоры и память.
Монополия ASML одновременно стала её главным преимуществом и потенциальной угрозой. Чем важнее одна технология для мировой экономики, тем больше денег, специалистов и ресурсов конкуренты готовы потратить на альтернативу. Фуке фактически предупреждает: попытка запретами навсегда сохранить технологический разрыв может ускорить появление реального соперника у единственного производителя EUV.
